日本先进光刻机保有量上升，ASML 计划驻日维护团队规模扩大四倍

【蜂耘网  激光光学】 4 月 3 日消息，《日经亚洲》当地时间昨晚报道称，在日本半导体制造足迹不断扩张、先进光刻机保有量持续上升的趋势下，ASML 计划将其驻日维护团队在未来几年扩大到当前规模的 5 倍，到 2027 年来到 100 人。

根据了解，日本境内至少有三个项目将引入 ASML 提供的 EUV 光刻设备，分别是 Rapidus 位于北海道千岁市的 IIM 晶圆厂（2nm 逻辑）、美光广岛的内存生产线（1-gamma DRAM）和台积电日本子公司 JASM 的二期晶圆厂（6/7nm 逻辑）。

而若考虑到 DUV 机台，日本的 ASML 设备持有规模将进一步提升。更大的当地支持组织能帮助 ASML 在日本客户提出需求的第一时间响应处置，从而减少停机等待时间，降低客户的损失。

（蜂耘激光光学网  责任编辑：行云）